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검사장비의 최첨단 기술력!!

THE ADVANCED OPTICAL & INSPECTION TECHNOLOGY

반도체 장비
㈜힘스의 반도체장비 제품소개입니다.

IR Die Inner Crack Inspection System Model No. HSSMIR-4000

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힘스 반도체용 적외선 검사기는 산업용 적외선을 이용하여 반도체칩 내부의 결함을 감지하는 기술입니다.

최고사양의 비전시스템과 자체개발 검사 알고리즘 적용으로 검사 정확성 및 생산성이 비약적으로 향상되었습니다. 본 설비는 ‘PCB Strip’형태의 자재를 처리할 수 있도록 설계되어 있습니다.

Specification
Category Item Unit Specification Remark
Vision system Inspection items - Inner crack & Damage Surface defect detection available
Vision system Camera - line scan type, NIR [Near InfraRed] SWIR camera available
Vision system Illumination - Halogen IR lamp -
Equipment Handling system - Conveyor type -
Equipment Foot Print Mm 1,980x1,700x1,800 adaptable item
Equipment Weight Ton 2 adaptable item
Equipment Cleanness Class 100 0.5um

IR & Tray AVI Machine Model No. HSTIR-3000

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힘스 반도체용 적외선 검사기는 산업용 적외선을 이용하여 반도체칩 내부의 결함을 감지하는 기술입니다. 최고사양의 비전시스템과 자체개발 검사 알고리즘 적용으로 검사 정확성 및 생산성이 비약적으로 향상되었습니다. 본 설비는 ‘Waffle Chip tray’을 핸들링하고 IR 검사를 수행할 수 있는 기술이 적용되어 있습니다.

Specification
Category Item Unit Specification Remark
Vision system Inspection items - Inner crack & Damage Surface defect detection available
Vision system Camera - line scan type, NIR [Near InfraRed] SWIR camera available
Vision system Illumination - Halogen IR lamp -
Equipment Handling system - Turn table type 2” ~ 4” chip tray
Equipment Foot Print Mm 2,500x1,800x1,800 adaptable item
Equipment Weight Ton 3.5 adaptable item
Equipment Cleanness Class 100 0.5um

Tray (Unit Base) IR Crack Inspection System Model No. HSTIR-1000

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힘스 반도체용 적외선 검사기는 산업용 적외선을 이용하여 반도체칩 내부의 결함을 감지하는 기술입니다.

최고사양의 비전시스템과 자체개발 검사 알고리즘 적용으로 검사 정확성 및 생산성이 비약적으로 향상되었습니다.

본 설비는 ‘Jedec type IC tray’을 핸들링하고 IR 검사를 수행할 수 있는 기술이 적용되어 있습니다.

Specification
Category Item Uni Specification Remark
Vision system Inspection items - Inner crack & Damage Surface defect detection available
Vision system Camera - line scan type, NIR [Near InfraRed] SWIR camera available
Vision system Illumination - Halogen IR lamp -
Equipment Handling system - Conveyor type Tray transfer
Equipment Foot Print Mm 1,210 x 1,750 x 1,760 adaptable item
Equipment Weight Ton 1.5 adaptable item
Equipment Cleanness Class 100 0.5um

Wafer Bump Inspection System Model No. HSWA – 5000

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2D Mono Camera 사용하여 웨이퍼의 외관 결함 및 계측이 가능한 시스템입니다.

향상된 외관 검사와 Pad 사이즈 및 웨이퍼의 끝부분 노출(Edge Exposure) 검사 등 계측 기능도 수행 가능한 모델입니다.

XY 스테이지의 이동 효율성 향상 및 고속 트리거 생성 그리고 알고리즘 처리속도를 높여 검사 시간을 획기적으로 단축하였습니다.  또한, SPC 및 RMS와 같은 향상된 생산 및 분석 도구를 제공하여 수율 및 불량 분석을 도와주고, 생산성 향상을 제공합니다.

Specification
Category Item Unit Specification Remark
Vision system Wafers Inch Max 12” -
Vision system Inspection items - Defects on wafer surface -
Vision system Camera - 2D, Area Scan 3D available
Equipment Handling system - Double Arm robot Bare / Framed wafer
Equipment Foot Print Mm 2,580 x 1,400 x 2,309 adaptable item
Equipment Weight Ton 1.5 adaptable item
Equipment Cleanness Class 100 0.5um

Pellicle Inspection System Model No. CPI-300(PS)

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CPI-300(PS)시스템은 Lithographic Photo-mask공정을 위하여 Reticle의 상부(Glass Side)와 하부(Pellicle Side)표면의 결함을 검사하는 시스템.

Specification
Category Item Unit Specification Remark
Vision system Inspection items - ≥5.0 Defects:G / IDUV,KrF,ArfofBinary / PSM -
Vision system Repeatability % ≥97% SPL
Vision system Light Source - Cool White LED
Vision system Inspection area - inspect 6 inch reticle -
Equipment Foot Print Mm 828 × 356× 732 Module type
Equipment Material used & surface finished - Stainless Steel- Anodized Aluminum- ESD safe synthetic material

2D/3D_AOI System Model No. HSSM-2000/2100

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2D/3D 카메라를 이용하여 칩 및 컴포넌트 등의 외관 검사 설비.

컴포넌트, 솔더 이상, 칩 이상, 이물 등의 2D 검사 포함하여 컴포넌트 및 다이 기울임 이상 등의 3D 검사도 수행 가능함

Specification
Items Unit 2D Vision (HSSM-2100) 3D Vision (HSSM-2000) Remark
Camera - Area Scan Line Scan  
Material movement - From Left side to right side Dual lane
Foot print mm 1020 x 1400 x 1733+202(PC) 1680 x 1330 x 1787+202(PC) Length x Width x Height
Weight ton About 1 ton About 1.5 ton  
Power supply - 220V/50~60Hz/3Phase  
문의사항은 영업부(TEL.032-821-2511 또는 sales@hims.co.kr)로 연락바랍니다.